换句话说,光刻机所需的反度必须打磨到万亿分之一米。

盛明安:“用硅和钼反复镀膜,直到光线利用率达到国际标准。”

有?人反驳:“都是?纳米级镀膜,反复镀膜也会影响度,工艺太难了?!”

难度多大?

最浅显易懂的比喻便是?将一面直径不?超过四十厘米的反镜放大至覆盖地面,其平面起伏不?能超过一Loading...

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