现在产品已经发展到arf光刻胶阶段,而国内还在ktfr光刻胶阶段,后续研究一直停滞,相差三代。

这不仅仅是因为资金不够的原因,更大程度是因为电行业与军事密相关,国外技术封锁,很难

现在电工业发展迅速,而华夏芯片的劣势也越来越明显,就靠着一些企业自己研究发展,展缓慢,所以,政府想要重启光刻胶的研究。

江小溪听到这里

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